トリケミカル研究所（4369）が急騰した理由

2026年6月1日 10:40 に急騰を検知

急騰の理由

好決算・上方修正

• 先端半導体（3nm以下）の製造工程で不可欠なCVD/ALD用前駆体材料において高いシェアを持ち、TSMCやサムスンなど最先端ファブの需要拡大が直接業績を押し上げている
• 生成AI・HPC向け半導体の増産サイクルが本格化しており、使用する特殊化学材料の需要が急増している
• 同社は研究開発型の少量多品種メーカーであり、参入障壁が高く代替困難な材料を多数保有していることが収益の安定性と高マージンを支えている
• 顧客の最先端プロセス移行（EUV対応など）に伴い、新規前駆体の採用機会が継続的に創出されており、中長期的な成長余地が大きい

事業内容

半導体製造プロセス向け高純度特殊ガス・化学材料（前駆体）の開発・製造・販売を行う企業である

関連テーマ

半導体材料、CVD前駆体、AI半導体需要、先端プロセス

連想で動きやすい銘柄

• JSR（4185）：半導体向けフォトレジストや機能性材料を手がけ、先端半導体需要の恩恵を同様に受ける
• 信越化学工業（4063）：シリコンウェーハ・半導体材料の最大手であり、AI半導体増産の追い風が直接波及する
• フェローテックホールディングス（6890）：半導体製造装置部品・シリコン部材を供給し、ファブ稼働率上昇の恩恵を受ける
• 日本触媒（4114）：高機能化学品・電子材料分野を持ち、半導体関連材料銘柄として連想買いが入りやすい

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